嘉興GMP純水設備解讀;半導體研磨廢水的處理方法及分類
2022/11/16 15:34:04 點擊:
【上海水處理設備網www.esdzu.com】近年來,隨著科學技術的不斷進步和人民需求的不斷增加,我國半導體消費行業發展迅速,然而也有少量半導體廢水排放。那么下面就來說說半導體研磨廢水的處理方法。 在集成電路封裝的制造過程中,會對晶圓進行切割和研磨,并用超純水清洗,因此會產生少量的切割和研磨廢水。目前國內很多廠家采用混凝沉淀和濾袋過濾的方法,嘉興GMP純水設備出水達到污水綜合處理排放標準。 一種半導體研磨廢水的處理方法及純水設備,其特征在于,包括以下步驟: (1)通過廢水收集箱收集硅片研磨產生的廢水; (2)用水泵將廢水泵入多介質過濾器進行初步過濾; (3)將一次過濾后的水送入保安過濾器進行二次過濾,保安過濾器用于屏蔽超濾膜; (4)將第二次過濾后的水送入超濾膜過濾裝置進行第三次過濾; (SDI計或濁度計用于測量和確定第三次過濾的水是否能滿足第一次設定的規格要求,如果滿足規格要求,則送至生產水箱;
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